氧化铌靶
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氧化铌靶

化学式:Nb2Ox(4.3

成型工艺:喷涂                                                       密度:≥4.3g/cm2(≥95%)

纯度:≥99.95%

应用:主要用于光学薄膜,

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客户要求定做

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