氧化铌靶

化学式:Nb2Ox(4.3

电阻率(20C):≤0.1Ω.cm

成型工艺:喷涂

密度:≥4.3g/cm2(≥95%)

纯度:≥99.95%

应用:主要用于LOW-E镀膜玻璃，薄膜太阳能电池电极膜系，TFT-LCD，半导体电子

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM，直型、狗骨型，按客户要求定做