平面硅靶 Si

PVD镀膜一般指在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求. 光学镀膜料主要用途分为复合膜，彩色膜，增透膜，透紫外膜，激光装置滤光片，保护膜，透明导电膜，变色膜，优良的宽带增透膜，磁性薄膜，可见光区增透膜，红外增透膜，分光膜，多层膜，高反射膜，电阻膜，热反射膜，冷光灯、冷光碗，各种镜片镀膜等。光学镀膜作用广泛，膜料品种多样，（塔基特靶材）为各类镀膜企业提供各种镀膜材料。

主要有靶材：硅靶、铌靶、锡靶、钛靶、铟锡靶、氧化铌靶。