化学式:Si 电阻率(20℃):0.01-400Ω.cm
成型工艺:喷涂 密度:≥2.26g/cm3(≥96%)
纯度:≥99.99%
应用:用于制作SiO2/Si3N4膜,主要用于光学玻璃,触摸屏之AR膜系,LOW-E镀膜玻璃,半导体电子,平面显示,触摸屏
最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客户要求定做