化学式：Si 电阻率（20℃）：0.01-400Ω.cm
成型工艺：喷涂 密度：≥2.26g/cm3（≥96%）
纯度：≥99.99%
应用：用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光学玻璃，触摸屏之AR膜系，LOW-E镀膜玻璃，半导体电子，平面显示，触摸屏
最大加工尺寸：长度：4000MM厚度：6-10MM，直型、狗骨型，按客户要求定做
